激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)一般包括高能量的激光器、聚焦激光的光學(xué)系統(tǒng)及相應(yīng)的控制單元、樣品燒蝕室以及使產(chǎn)生的氣溶膠有效傳輸至等離子體的接口裝置等。高能量的激光束經(jīng)過聚焦后照射在試樣表面，對(duì)試樣表面進(jìn)行微區(qū)剝蝕，產(chǎn)生的氣溶膠和細(xì)微顆粒與從樣品室底部以切線方向引入的環(huán)繞樣品的氬氣流形成氣溶膠，從樣品室的頂部或側(cè)面引出，由連接管引至ICP炬管(去除霧化器和霧室)。激光剝蝕系統(tǒng)在提高空間分辨率(<10μm)、提高物質(zhì)吸收率、降低分餾效應(yīng)、改善測(cè)量精密度等方面都獲得重大改進(jìn)。

美國(guó)CETAC的激光剝蝕產(chǎn)品線包括213nm固態(tài)激光系統(tǒng)、193nm準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)、飛秒激光系統(tǒng)（與ICP-MS聯(lián)用），及CO2和二極管激光熔融系統(tǒng)（與惰性氣體同位素質(zhì)譜聯(lián)用），此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強(qiáng)并完善系統(tǒng)的功能。產(chǎn)品廣泛用于地質(zhì)、考古、材料、法醫(yī)、生化、制藥等領(lǐng)域，足以為元素分析用戶提供先進(jìn)的激光剝蝕技術(shù)。

Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統(tǒng)是市面上很具操作性的飛秒系統(tǒng)，采用結(jié)構(gòu)緊湊、全密閉的工業(yè)級(jí)激光源，無需二次校準(zhǔn)和清潔維護(hù)。系統(tǒng)提供多種波長(zhǎng)可選，如1028nm、257nm、206nm，或配置多波長(zhǎng)切換控制，相對(duì)應(yīng)的能量密度為10J/cm2(1028nm)、5J/cm2(257nm)、3J/cm2(206nm)，在穩(wěn)定運(yùn)行情況下剝蝕穩(wěn)定性RSD能達(dá)到0.1%。同時(shí)系統(tǒng)配備HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池，提供快速?zèng)_洗效率和持續(xù)的剝蝕環(huán)境。

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